第98章 面见萧炎 (第3/3页)
础知识，怎么可能听得懂这玩意？
“你能听得懂？”他半信半疑地喃喃问道，“小子，这可不是叶志华教的计算机原理那么基础的东西，我不相信你能听得懂，你还是先去看看光学基础教材吧。”
“我想试试，看看我能不能听懂。”王向中倒也不退缩，在学术问题上，他一直都有着自己的坚持。
看到王向中那坚毅的表情，萧炎也是愣了好一会，方才意味深长地点了点头，道：“既然你这么坚持，那我就和你讲讲这个光栅是怎么回事吧。”
二元光学的概念起源于十多年前，率先由马省理工学院研究小组在设计新型传感器系统时提出。一般认为二元光学是基于光的衍射理论，利用微电子集成电路制作工艺在片基表面上刻蚀产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成多相位、同轴再现且具有极高衍射效率的一类衍射光学元件的光学理论技与技术。
二元光学元件可以说是当前光学最新的研究的要点，不仅是i线光刻机可以利用该理论，在日后的DUV、EUV光刻机上，同样也会使用基于该理论的菲涅尔薄待透镜阵列，用于改良光刻机水平。
二元光学的主要着眼点就是采用量化的方法，将相息图连续变化的坡面用台阶来逼近，量化的次数越多，台阶数就越多，也就越趋于接近连续变化的坡面。
“听懂了吗？”萧炎似笑非笑地盯着王向中，“我已经讲得非常简单了。”
王向中闻言，点了点头，道：“如果用更通俗的方式来讲，其实就是利用光的衍射效应，强行在光源固定的情况下，增加更多的坡面，达到变相提升分辨率的办法。”
在光刻的曝光刻蚀这一步时，一般都是直接使用光源曝光光刻胶，形成一个一道一道的坑道，然后使用化学试剂将残余的变性光刻胶洗去，然后再进行掺杂工序。
而使用光栅后，能变相地形成更窄的坑道，也就达到了工艺提升的目标。
虽然这样做不可避免地在曝光刻蚀这一步增加了数百道工序，但在眼下来看，这已经是最佳的改良方式了。
萧炎见状，也是瞳孔一缩，这小子不简单，没想到还真是个行家！